光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)的(de)(de)(de)(de)(de)技(ji)(ji)(ji)術(shu)(shu)壁(bi)壘包(bao)括(kuo)配方技(ji)(ji)(ji)術(shu)(shu)，質(zhi)量控制(zhi)(zhi)(zhi)技(ji)(ji)(ji)術(shu)(shu)和(he)原材料技(ji)(ji)(ji)術(shu)(shu)。配方技(ji)(ji)(ji)術(shu)(shu)是光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)實(shi)現(xian)功(gong)能的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)(yao)點，質(zhi)量控制(zhi)(zhi)(zhi)技(ji)(ji)(ji)術(shu)(shu)能夠保證(zheng)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)性(xing)能的(de)(de)(de)(de)(de)穩定(ding)性(xing)而較好的(de)(de)(de)(de)(de)原材料則是光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)性(xing)能的(de)(de)(de)(de)(de)基(ji)礎。配方技(ji)(ji)(ji)術(shu)(shu)：由于光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)的(de)(de)(de)(de)(de)下游用戶(hu)是IC芯片和(he)FPD面板制(zhi)(zhi)(zhi)造(zao)商，不(bu)同(tong)的(de)(de)(de)(de)(de)客(ke)戶(hu)會(hui)有(you)不(bu)同(tong)的(de)(de)(de)(de)(de)應用需(xu)求(qiu)(qiu)，同(tong)一個客(ke)戶(hu)也(ye)有(you)不(bu)同(tong)的(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)應用需(xu)求(qiu)(qiu)。一般(ban)一塊半(ban)導體(ti)(ti)(ti)(ti)芯片在制(zhi)(zhi)(zhi)造(zao)過(guo)程中需(xu)要(yao)(yao)進(jin)行(xing)10-50道(dao)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)過(guo)程，由于基(ji)板不(bu)同(tong)、分辨率要(yao)(yao)求(qiu)(qiu)不(bu)同(tong)、蝕(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)方式不(bu)同(tong)等，不(bu)同(tong)的(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)過(guo)程對(dui)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)的(de)(de)(de)(de)(de)具體(ti)(ti)(ti)(ti)要(yao)(yao)求(qiu)(qiu)也(ye)不(bu)一樣，即使類(lei)似的(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)過(guo)程，不(bu)同(tong)的(de)(de)(de)(de)(de)廠商也(ye)會(hui)有(you)不(bu)同(tong)的(de)(de)(de)(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)(qiu)。針對(dui)以上(shang)不(bu)同(tong)的(de)(de)(de)(de)(de)應用需(xu)求(qiu)(qiu)，光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)的(de)(de)(de)(de)(de)品種(zhong)非常多，這些差(cha)異主要(yao)(yao)通過(guo)調(diao)(diao)整(zheng)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)的(de)(de)(de)(de)(de)配方來實(shi)現(xian)。因(yin)此(ci)，通過(guo)調(diao)(diao)整(zheng)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)的(de)(de)(de)(de)(de)配方，滿足(zu)差(cha)異化的(de)(de)(de)(de)(de)應用需(xu)求(qiu)(qiu)，是光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)制(zhi)(zhi)(zhi)造(zao)商重要(yao)(yao)的(de)(de)(de)(de)(de)技(ji)(ji)(ji)術(shu)(shu)。中國半(ban)導體(ti)(ti)(ti)(ti)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)的(de)(de)(de)(de)(de)快速崛起(qi)離(li)不(bu)開中國整(zheng)體(ti)(ti)(ti)(ti)半(ban)導體(ti)(ti)(ti)(ti)產業的(de)(de)(de)(de)(de)發展。嘉定(ding)光(guang)(guang)(guang)交聯型光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)曝光(guang)(guang)(guang)

日韓(han)材(cai)料(liao)(liao)(liao)摩擦(ca)：半(ban)導(dao)體(ti)(ti)(ti)材(cai)料(liao)(liao)(liao)國產(chan)(chan)化是(shi)(shi)必然趨勢(shi)；2019年7月份，在日韓(han)貿易(yi)爭(zheng)端的背景(jing)下(xia)，日本(ben)宣布對(dui)韓(han)國實施三(san)(san)種半(ban)導(dao)體(ti)(ti)(ti)產(chan)(chan)業材(cai)料(liao)(liao)(liao)實施禁(jin)運，包(bao)含(han)刻(ke)(ke)(ke)(ke)蝕氣體(ti)(ti)(ti)，光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)和氟(fu)聚(ju)酰亞胺。韓(han)國是(shi)(shi)全球存儲(chu)器生(sheng)(sheng)產(chan)(chan)基地(di)，顯(xian)示(shi)屏生(sheng)(sheng)產(chan)(chan)基地(di)，也是(shi)(shi)全球晶圓代工基地(di)，三(san)(san)星，海(hai)力士(shi)，東部高(gao)科等(deng)一(yi)大(da)批晶圓代工廠和顯(xian)示(shi)屏廠都需要日本(ben)的半(ban)導(dao)體(ti)(ti)(ti)材(cai)料(liao)(liao)(liao)。這三(san)(san)種材(cai)料(liao)(liao)(liao)直接掐斷了韓(han)國存儲(chu)器和顯(xian)示(shi)屏的經濟支(zhi)柱。目前中(zhong)國大(da)陸對(dui)于電子材(cai)料(liao)(liao)(liao)，特別是(shi)(shi)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)方面對(dui)國外依(yi)賴(lai)較(jiao)高(gao)。所以(yi)在半(ban)導(dao)體(ti)(ti)(ti)材(cai)料(liao)(liao)(liao)方面的國產(chan)(chan)代替是(shi)(shi)必然趨勢(shi)。江浙滬PCB光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)顯(xian)影光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)按應(ying)用(yong)領(ling)域(yu)分(fen)類，可分(fen)為 PCB 光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)、顯(xian)示(shi)面板光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)、半(ban)導(dao)體(ti)(ti)(ti)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)及其他光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)。

抗(kang)蝕(shi)(shi)性(xing)(xing)即(ji)光(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)材料在(zai)刻(ke)(ke)(ke)(ke)蝕(shi)(shi)過程(cheng)中(zhong)(zhong)的(de)(de)(de)(de)(de)抵抗(kang)力(li)(li)(li)。在(zai)圖(tu)(tu)形(xing)從光(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)轉移(yi)到(dao)(dao)晶片的(de)(de)(de)(de)(de)過程(cheng)中(zhong)(zhong)，光(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)材料必須能(neng)(neng)夠抵抗(kang)高能(neng)(neng)和(he)高溫（>150℃）而不(bu)(bu)改變其原有特性(xing)(xing) 。在(zai)后續的(de)(de)(de)(de)(de)刻(ke)(ke)(ke)(ke)蝕(shi)(shi)工序中(zhong)(zhong)保護(hu)襯(chen)底表面。耐熱穩(wen)定性(xing)(xing)、抗(kang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)蝕(shi)(shi)能(neng)(neng)力(li)(li)(li)和(he)抗(kang)離(li)子轟擊能(neng)(neng)力(li)(li)(li) 。在(zai)濕法刻(ke)(ke)(ke)(ke)蝕(shi)(shi)中(zhong)(zhong)，印有電(dian)路圖(tu)(tu)形(xing)的(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)需(xu)要連同硅片一同置入化學刻(ke)(ke)(ke)(ke)蝕(shi)(shi)液(ye)(ye)中(zhong)(zhong)，進行很(hen)多次(ci)的(de)(de)(de)(de)(de)濕法腐蝕(shi)(shi)。只有光(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)具(ju)有很(hen)強的(de)(de)(de)(de)(de)抗(kang)蝕(shi)(shi)性(xing)(xing)，才能(neng)(neng)保證刻(ke)(ke)(ke)(ke)蝕(shi)(shi)液(ye)(ye)按照所希望的(de)(de)(de)(de)(de)選(xuan)擇比刻(ke)(ke)(ke)(ke)蝕(shi)(shi)出曝光(guang)(guang)所得圖(tu)(tu)形(xing)，更好體現器件性(xing)(xing)能(neng)(neng)。在(zai)干(gan)法刻(ke)(ke)(ke)(ke)蝕(shi)(shi)中(zhong)(zhong)，例如集成電(dian)路工藝中(zhong)(zhong)在(zai)進行阱區(qu)和(he)源(yuan)漏區(qu)離(li)子注入時，需(xu)要有較(jiao)好的(de)(de)(de)(de)(de)保護(hu)電(dian)路圖(tu)(tu)形(xing)的(de)(de)(de)(de)(de)能(neng)(neng)力(li)(li)(li)，否(fou)則光(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)會因為在(zai)注入環境中(zhong)(zhong)揮發而影(ying)響(xiang)到(dao)(dao)注入腔的(de)(de)(de)(de)(de)真空度。此時注入的(de)(de)(de)(de)(de)離(li)子將不(bu)(bu)會起(qi)(qi)到(dao)(dao)其在(zai)電(dian)路制造工藝中(zhong)(zhong)應起(qi)(qi)到(dao)(dao)的(de)(de)(de)(de)(de)作用，器件的(de)(de)(de)(de)(de)電(dian)路性(xing)(xing)能(neng)(neng)受阻(zu)。

目(mu)前國(guo)(guo)(guo)內(nei)從事半導(dao)(dao)體光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)研(yan)發(fa)和(he)生產(chan)的(de)企(qi)業包(bao)括晶(jing)瑞股(gu)份、南大光(guang)(guang)(guang)電(dian)、上海新陽、北京(jing)(jing)科華等(deng)。相關企(qi)業以(yi)i 線(xian)(xian)、g線(xian)(xian)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)生產(chan)為(wei)(wei)主，應用集(ji)成(cheng)電(dian)路制程(cheng)為(wei)(wei)350nm以(yi)上。在(zai)KrF光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)領域(yu)，北京(jing)(jing)科華、博(bo)康已實現量(liang)產(chan)。國(guo)(guo)(guo)內(nei)在(zai)ArF光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)領域(yu)產(chan)業化進程(cheng)相對較快的(de)企(qi)業為(wei)(wei)南大光(guang)(guang)(guang)電(dian)，其先后承擔國(guo)(guo)(guo)家02專(zhuan)項“高分(fen)辨(bian)率光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)與先進封裝光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)產(chan)品關鍵技(ji)術研(yan)發(fa)項目(mu)”和(he)“ArF光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)產(chan)品的(de)開發(fa)和(he)產(chan)業化項目(mu)”，公司自主研(yan)發(fa)的(de)ArF光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)產(chan)品成(cheng)為(wei)(wei)國(guo)(guo)(guo)內(nei)通過客戶驗(yan)證的(de)國(guo)(guo)(guo)產(chan)ArF光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)，其他國(guo)(guo)(guo)內(nei)企(qi)業尚處于研(yan)發(fa)和(he)驗(yan)證階(jie)段。半導(dao)(dao)體光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)的(de)涂(tu)敷方法主要是旋轉涂(tu)膠(jiao)法，具體可以(yi)分(fen)為(wei)(wei)靜態旋轉法和(he)動態噴灑法。

從(cong)90年代后(hou)半期開(kai)始，光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)就開(kai)始采用248nm的(de)KrF激(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)；而從(cong)2000年代開(kai)始，光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)就進一步轉向使用193nm波長(chang)的(de)ArF準分子激(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)作為(wei)(wei)(wei)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)。在那之(zhi)后(hou)一直到目前的(de)約(yue)20年里，193nm波長(chang)的(de)ArF準分子激(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)一直是(shi)半導體制(zhi)程領域性能(neng)可靠，使用較多的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)。一般而言，KrF（248nm）光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)使用聚對羥基(ji)苯乙烯(xi)及其衍(yan)生物(wu)(wu)作為(wei)(wei)(wei)成膜樹(shu)脂，使用磺酸(suan)碘鎓鹽和硫鎓鹽作為(wei)(wei)(wei)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)致酸(suan)劑(ji)；而ArF（193nm）光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)則多使用聚甲基(ji)丙烯(xi)酸(suan)酯衍(yan)生物(wu)(wu)，環烯(xi)烴-馬(ma)來(lai)酸(suan)酐共聚物(wu)(wu)，環形聚合物(wu)(wu)等作為(wei)(wei)(wei)成膜樹(shu)脂；由于化學結構(gou)上的(de)原(yuan)因，Arf(193nm)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)需(xu)要(yao)比KrF（248nm）光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)更加敏感的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)致酸(suan)劑(ji)。光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)只是(shi)一種形象的(de)說法，因為(wei)(wei)(wei)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)從(cong)外觀(guan)上呈現為(wei)(wei)(wei)膠(jiao)(jiao)(jiao)狀液(ye)體。浙江光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)交(jiao)聯(lian)型光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)顯(xian)影

在選擇光刻(ke)(ke)膠(jiao)時(shi)(shi)需要考慮(lv)化學性質、照射時(shi)(shi)間、敏感(gan)度和穩定性等因素，以(yi)確保所選的(de)光刻(ke)(ke)膠(jiao)能夠滿足制造要求。嘉定光交(jiao)聯型光刻(ke)(ke)膠(jiao)曝光

在(zai)雙(shuang)重(zhong)(zhong)曝(pu)(pu)(pu)(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)工藝中，若光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)可以(yi)接受多次(ci)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)曝(pu)(pu)(pu)(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)而不在(zai)光(guang)(guang)(guang)(guang)罩遮擋的(de)(de)(de)(de)(de)區(qu)(qu)域(yu)發(fa)生(sheng)光(guang)(guang)(guang)(guang)化學反應，就(jiu)可以(yi)節省一(yi)(yi)次(ci)刻(ke)蝕，一(yi)(yi)次(ci)涂(tu)膠(jiao)(jiao)和(he)一(yi)(yi)次(ci)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)清洗流(liu)程。由(you)于在(zai)非曝(pu)(pu)(pu)(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)區(qu)(qu)域(yu)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)仍然會接受到(dao)相對(dui)少量的(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)輻(fu)射(she)，在(zai)兩次(ci)曝(pu)(pu)(pu)(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)過(guo)程后，非曝(pu)(pu)(pu)(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)區(qu)(qu)域(yu)接受到(dao)的(de)(de)(de)(de)(de)輻(fu)射(she)有可能超(chao)過(guo)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)的(de)(de)(de)(de)(de)曝(pu)(pu)(pu)(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)閾(yu)(yu)值(zhi)E0，而發(fa)生(sheng)錯(cuo)誤的(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)反應。如果非曝(pu)(pu)(pu)(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)區(qu)(qu)域(yu)的(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)在(zai)兩次(ci)曝(pu)(pu)(pu)(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)后接受到(dao)的(de)(de)(de)(de)(de)輻(fu)射(she)能量仍然小于其曝(pu)(pu)(pu)(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)閾(yu)(yu)值(zhi)E0，那(nei)么就(jiu)是一(yi)(yi)次(ci)合格的(de)(de)(de)(de)(de)雙(shuang)重(zhong)(zhong)曝(pu)(pu)(pu)(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)。從(cong)這(zhe)個例子可以(yi)看出(chu)，與單(dan)次(ci)曝(pu)(pu)(pu)(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)不同(tong)，雙(shuang)重(zhong)(zhong)曝(pu)(pu)(pu)(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)要求光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)的(de)(de)(de)(de)(de)曝(pu)(pu)(pu)(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)閾(yu)(yu)值(zhi)和(he)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)光(guang)(guang)(guang)(guang)源的(de)(de)(de)(de)(de)照射(she)強度(du)之間的(de)(de)(de)(de)(de)權(quan)衡。嘉定光(guang)(guang)(guang)(guang)交聯型光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)曝(pu)(pu)(pu)(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)

上(shang)海蔚云化工(gong)有(you)限公(gong)(gong)(gong)(gong)司(si)(si)是(shi)(shi)一(yi)家(jia)集生產(chan)科研、加工(gong)、銷售為一(yi)體的(de)*，公(gong)(gong)(gong)(gong)司(si)(si)成立于2017-03-31，位于上(shang)海市金山(shan)區(qu)龍勝路1000號二(er)(er)(er)(er)層211室C。公(gong)(gong)(gong)(gong)司(si)(si)誠(cheng)實守信(xin)，真(zhen)誠(cheng)為客(ke)(ke)戶(hu)提供服務。公(gong)(gong)(gong)(gong)司(si)(si)現在主(zhu)要(yao)提供乙(yi)醇(chun)胺(an)(an)，乙(yi)二(er)(er)(er)(er)胺(an)(an)，丙(bing)二(er)(er)(er)(er)醇(chun)，己二(er)(er)(er)(er)酸(suan)二(er)(er)(er)(er)辛(xin)脂等業(ye)(ye)務，從業(ye)(ye)人員(yuan)均有(you)乙(yi)醇(chun)胺(an)(an)，乙(yi)二(er)(er)(er)(er)胺(an)(an)，丙(bing)二(er)(er)(er)(er)醇(chun)，己二(er)(er)(er)(er)酸(suan)二(er)(er)(er)(er)辛(xin)脂行(xing)內(nei)多年經驗。公(gong)(gong)(gong)(gong)司(si)(si)員(yuan)工(gong)技術嫻(xian)熟、責任心強(qiang)。公(gong)(gong)(gong)(gong)司(si)(si)秉(bing)承(cheng)客(ke)(ke)戶(hu)是(shi)(shi)上(shang)帝(di)的(de)原(yuan)則，急客(ke)(ke)戶(hu)所(suo)急，想客(ke)(ke)戶(hu)所(suo)想，熱(re)情(qing)服務。公(gong)(gong)(gong)(gong)司(si)(si)與(yu)(yu)行(xing)業(ye)(ye)上(shang)下游(you)之間建立了長久親密(mi)的(de)合作關系，確保(bao)乙(yi)醇(chun)胺(an)(an)，乙(yi)二(er)(er)(er)(er)胺(an)(an)，丙(bing)二(er)(er)(er)(er)醇(chun)，己二(er)(er)(er)(er)酸(suan)二(er)(er)(er)(er)辛(xin)脂在技術上(shang)與(yu)(yu)行(xing)業(ye)(ye)內(nei)保(bao)持同步。產(chan)品(pin)質量按照行(xing)業(ye)(ye)標(biao)準進行(xing)研發生產(chan)，絕不因價(jia)格(ge)而放棄(qi)質量和(he)聲(sheng)譽(yu)。揚巴,諾力昂,衛(wei)星,陶氏秉(bing)承(cheng)著(zhu)誠(cheng)信(xin)服務、產(chan)品(pin)求新的(de)經營原(yuan)則，對于員(yuan)工(gong)素質有(you)嚴格(ge)的(de)把控和(he)要(yao)求，為乙(yi)醇(chun)胺(an)(an)，乙(yi)二(er)(er)(er)(er)胺(an)(an)，丙(bing)二(er)(er)(er)(er)醇(chun)，己二(er)(er)(er)(er)酸(suan)二(er)(er)(er)(er)辛(xin)脂行(xing)業(ye)(ye)用戶(hu)提供完善的(de)售前和(he)售后服務。

本文(wen)來(lai)自宜興市(shi)恒通風(feng)機有(you)限公司：//vijoo.com.cn/Article/07b6299930.html