1）增感(gan)劑（光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)引發(fa)劑）：是(shi)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)的(de)關鍵(jian)成(cheng)分，對光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)的(de)感(gan)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)度(du)、分辨率起(qi)著(zhu)(zhu)決(jue)定性(xing)作用(yong)(yong)(yong)。2）感(gan)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)樹脂（聚(ju)合劑）：用(yong)(yong)(yong)于將光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)中不(bu)同材料(liao)聚(ju)合在(zai)一起(qi)，構成(cheng)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)的(de)骨架(jia)，決(jue)定光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)的(de)硬度(du)、柔韌性(xing)、附著(zhu)(zhu)力等基本屬性(xing)。3）溶劑：是(shi)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)中比較(jiao)(jiao)大成(cheng)分，目的(de)是(shi)使光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)處(chu)于液態，但溶劑本身對光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)的(de)化(hua)(hua)學(xue)(xue)性(xing)質(zhi)幾乎無影響。4）助劑：通常是(shi)專有化(hua)(hua)合物，主要用(yong)(yong)(yong)來改變(bian)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)特(te)定化(hua)(hua)學(xue)(xue)性(xing)質(zhi)。根據應用(yong)(yong)(yong)領域，光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)可分為半(ban)導(dao)(dao)體(ti)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)、LCD光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)和PCB光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)，其(qi)技術(shu)(shu)壁壘(lei)依(yi)次降低(di)（半(ban)導(dao)(dao)體(ti)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)> LCD光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)> PCB光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)）。從國(guo)產化(hua)(hua)進程來看，PCB光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)目前(qian)國(guo)產替(ti)(ti)代進度(du)較(jiao)(jiao)快(kuai)，LCD光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)替(ti)(ti)代進度(du)相對較(jiao)(jiao)快(kuai)，而在(zai)半(ban)導(dao)(dao)體(ti)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)領域國(guo)產技術(shu)(shu)較(jiao)(jiao)國(guo)外先(xian)進技術(shu)(shu)差(cha)距比較(jiao)(jiao)大。氧(yang)化(hua)(hua)物型光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)：這(zhe)種類型的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)由氧(yang)化(hua)(hua)硅或其(qi)他(ta)窄帶隙材料(liao)制成(cheng)。在(zai)制造高質(zhi)量微電子設備(bei)時非(fei)常有用(yong)(yong)(yong)。昆山干膜(mo)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)(jiao)溶劑

光刻膠(jiao)(jiao)行(xing)(xing)(xing)業(ye)(ye)具有極高(gao)的(de)行(xing)(xing)(xing)業(ye)(ye)壁壘(lei)，因此在全球(qiu)(qiu)范圍其(qi)行(xing)(xing)(xing)業(ye)(ye)都呈現(xian)寡頭壟(long)斷的(de)局面(mian)。光刻膠(jiao)(jiao)行(xing)(xing)(xing)業(ye)(ye)長年被(bei)日本(ben)(ben)和(he)(he)美(mei)國專業(ye)(ye)公司(si)(si)壟(long)斷。目前大(da)廠商(shang)就占據(ju)了(le)全球(qiu)(qiu)光刻膠(jiao)(jiao)市場 87%的(de)份額，行(xing)(xing)(xing)業(ye)(ye)集(ji)中度高(gao)。其(qi)中，日本(ben)(ben) JSR、東(dong)京應化(hua)、日本(ben)(ben)信(xin)越與(yu)富(fu)士電(dian)子材料市占率加和(he)(he)達到(dao)72%。并且(qie)高(gao)分辨率的(de) KrF 和(he)(he) ArF 半導體光刻膠(jiao)(jiao)技(ji)術(shu)亦基(ji)本(ben)(ben)被(bei)日本(ben)(ben)和(he)(he)美(mei)國企(qi)(qi)業(ye)(ye)所壟(long)斷，產品絕大(da)多數出(chu)自(zi)日本(ben)(ben)和(he)(he)美(mei)國公司(si)(si)，如杜邦、JSR 株式會社、信(xin)越化(hua)學、東(dong)京應化(hua)工(gong)業(ye)(ye)、Fujifilm，以及韓國東(dong)進(jin)等(deng)企(qi)(qi)業(ye)(ye)。整個(ge)光刻膠(jiao)(jiao)市場格局來看，日本(ben)(ben)是光刻膠(jiao)(jiao)行(xing)(xing)(xing)業(ye)(ye)的(de)巨頭聚集(ji)地。蘇州i線光刻膠(jiao)(jiao)光引發劑光刻膠(jiao)(jiao)發展(zhan)至今已有百年歷史，現(xian)已用于集(ji)成(cheng)電(dian)路、顯示(shi)、PCB 等(deng)領域，是光刻工(gong)藝的(de)重要(yao)材料。

在半導體集(ji)成電路制造行業(ye)；主要使(shi)用(yong)g線光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)、i線光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)、KrF光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)、ArF光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)等。在大規(gui)模集(ji)成電路的(de)制造過(guo)程中(zhong)，一般(ban)要對硅片(pian)進(jin)行超過(guo)十次(ci)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)。在每次(ci)的(de)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)和刻(ke)蝕工藝中(zhong)，光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)都(dou)要通過(guo)預(yu)烘、涂膠(jiao)(jiao)、前烘、對準、曝光(guang)(guang)(guang)、后烘、顯影和蝕刻(ke)等環節，將光(guang)(guang)(guang)罩（掩膜版）上的(de)圖(tu)形轉(zhuan)移到硅片(pian)上。

光(guang)刻(ke)膠(jiao)是集(ji)(ji)成(cheng)電路(lu)制造(zao)(zao)的(de)重要(yao)材(cai)(cai)(cai)料：光(guang)刻(ke)膠(jiao)的(de)質量和性(xing)(xing)能(neng)(neng)是影(ying)響集(ji)(ji)成(cheng)電路(lu)性(xing)(xing)能(neng)(neng)、成(cheng)品(pin)率及可靠性(xing)(xing)的(de)關鍵因(yin)素。光(guang)刻(ke)工(gong)藝(yi)的(de)成(cheng)本約(yue)為整(zheng)個芯(xin)片制造(zao)(zao)工(gong)藝(yi)的(de)35%，并(bing)且(qie)耗費(fei)時(shi)間約(yue)占整(zheng)個芯(xin)片工(gong)藝(yi)的(de)40%-50%。光(guang)刻(ke)膠(jiao)材(cai)(cai)(cai)料約(yue)占IC制造(zao)(zao)材(cai)(cai)(cai)料總成(cheng)本的(de)4%，市場巨(ju)大。因(yin)此(ci)光(guang)刻(ke)膠(jiao)是半(ban)導體(ti)集(ji)(ji)成(cheng)電路(lu)制造(zao)(zao)的(de)重要(yao)材(cai)(cai)(cai)料。

光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)屬于半(ban)(ban)導體(ti)八大重要材(cai)料(liao)(liao)之一，根(gen)據(ju)全球半(ban)(ban)導體(ti)行(xing)業協會（SEMI）近期數(shu)據(ju)，光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)在(zai)半(ban)(ban)導體(ti)晶(jing)圓制造材(cai)料(liao)(liao)價值占比5%，光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)輔助材(cai)料(liao)(liao)占比7%，二(er)者(zhe)合計占比12%，光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)及輔助材(cai)料(liao)(liao)是繼硅片、電子(zi)特氣和光(guang)(guang)(guang)(guang)掩(yan)模之后(hou)的(de)第四大半(ban)(ban)導體(ti)材(cai)料(liao)(liao)。光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)又稱光(guang)(guang)(guang)(guang)致抗蝕劑(ji)，是指通過紫外光(guang)(guang)(guang)(guang)、電子(zi)束、離子(zi)束、X射線(xian)等照射或輻射，其溶解(jie)度發生變化的(de)耐蝕劑(ji)刻(ke)(ke)薄膜材(cai)料(liao)(liao)，目(mu)前(qian)被用于光(guang)(guang)(guang)(guang)電信息產業的(de)微(wei)細圖形(xing)線(xian)路(lu)加工(gong)制作環(huan)節。光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)由增感劑(ji)（光(guang)(guang)(guang)(guang)引發劑(ji)）、感光(guang)(guang)(guang)(guang)樹脂（聚(ju)合劑(ji)）、溶劑(ji)與助劑(ji)構成。根(gen)據(ju)應(ying)用領域(yu)不同，光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)可分為 PCB 光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)、LCD 光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)和半(ban)(ban)導體(ti)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)，技(ji)術門檻逐漸遞增。

歷(li)史上光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)機所使(shi)用(yong)的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)波(bo)(bo)長(chang)呈現出與集成(cheng)(cheng)電路(lu)關(guan)鍵尺寸同(tong)(tong)(tong)步縮小(xiao)的(de)趨勢。不同(tong)(tong)(tong)波(bo)(bo)長(chang)的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)光(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)要求截然不同(tong)(tong)(tong)的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)設(she)備和(he)(he)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)材(cai)料。在20世紀80年(nian)代，半(ban)導(dao)(dao)體制成(cheng)(cheng)的(de)主流(liu)工藝(yi)尺寸在1.2um(1200nm)至(zhi) 0.8um(800nm)之間。那時候(hou)波(bo)(bo)長(chang)436nm的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)光(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)被大量(liang)使(shi)用(yong)。在90年(nian)代前半(ban)期，隨(sui)著半(ban)導(dao)(dao)體制程(cheng)工藝(yi)尺寸朝 0.5um（500nm）和(he)(he)0.35um（350nm）演進，光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)開始(shi)采用(yong)365nm波(bo)(bo)長(chang)光(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)。436nm和(he)(he)365nm光(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)分(fen)(fen)別是高(gao)(gao)壓(ya)汞燈中(zhong)能量(liang)比較高(gao)(gao)，波(bo)(bo)長(chang)**短(duan)的(de)兩(liang)(liang)個(ge)譜(pu)線(xian)。高(gao)(gao)壓(ya)汞燈技術成(cheng)(cheng)熟，因此很(hen)早被用(yong)來(lai)當作光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)光(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)。使(shi)用(yong)波(bo)(bo)長(chang)短(duan)，能量(liang)高(gao)(gao)的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)進行光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)工藝(yi)更容易激發光(guang)(guang)(guang)(guang)化學(xue)反應、提高(gao)(gao)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)分(fen)(fen)別率(lv)。以研究光(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)而聞名(ming)的(de)近(jin)代德國科學(xue)家約瑟夫·弗勞恩霍夫將這兩(liang)(liang)種波(bo)(bo)長(chang)的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)分(fen)(fen)別命名(ming)為G線(xian)和(he)(he)I線(xian)。這也(ye)是 g-line光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)和(he)(he) i-line光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)技術命名(ming)的(de)由來(lai)。目前，我國光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)自給率(lv)較低，生產也(ye)主要集中(zhong)在中(zhong)低端產品，國產替代的(de)空間廣闊。上海半(ban)導(dao)(dao)體光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)集成(cheng)(cheng)電路(lu)材(cai)料

彩色光(guang)刻膠及黑色光(guang)刻膠市場也呈(cheng)現日(ri)韓企業主導的格局，國內企業有(you)雅(ya)克(ke)科技、飛(fei)凱(kai)材(cai)料、彤程新(xin)材(cai)等。昆山(shan)干膜光(guang)刻膠溶劑

中美貿易摩(mo)擦：光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠國(guo)(guo)產(chan)(chan)(chan)代(dai)替(ti)是(shi)(shi)(shi)中國(guo)(guo)半(ban)導(dao)體產(chan)(chan)(chan)業的(de)迫切需(xu)要；自從(cong)中美貿易摩(mo)擦依賴，中國(guo)(guo)大(da)陸積極布局集(ji)成(cheng)電路(lu)產(chan)(chan)(chan)業。在半(ban)導(dao)體材料領(ling)域，光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠作為是(shi)(shi)(shi)集(ji)成(cheng)電路(lu)制(zhi)程(cheng)(cheng)技術進(jin)步的(de)“燃(ran)料”，是(shi)(shi)(shi)國(guo)(guo)產(chan)(chan)(chan)代(dai)替(ti)重要環節，也是(shi)(shi)(shi)必將國(guo)(guo)產(chan)(chan)(chan)化的(de)產(chan)(chan)(chan)品(pin)。光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)是(shi)(shi)(shi)半(ban)導(dao)制(zhi)程(cheng)(cheng)的(de)重要工藝(yi)，對(dui)制(zhi)造出更先進(jin)，晶體管密度(du)更大(da)的(de)集(ji)成(cheng)電路(lu)起(qi)到決定性(xing)(xing)作用(yong)。每(mei)一(yi)(yi)代(dai)新(xin)的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)工藝(yi)都(dou)需(xu)要新(xin)一(yi)(yi)代(dai)的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠技術相(xiang)匹配。現在，一(yi)(yi)塊半(ban)導(dao)體芯(xin)片在制(zhi)造過程(cheng)(cheng)中一(yi)(yi)般需(xu)要進(jin)行10-50道光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)過程(cheng)(cheng)。其中不同(tong)的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)過程(cheng)(cheng)對(dui)于(yu)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠也有不一(yi)(yi)樣的(de)具體需(xu)求。光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠若性(xing)(xing)能不達標會對(dui)芯(xin)片成(cheng)品(pin)率造成(cheng)重大(da)影響(xiang)。昆山干膜光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)(ke)膠溶(rong)劑

上海(hai)(hai)蔚(yu)云(yun)化(hua)工(gong)(gong)有(you)限公司(si)是一(yi)(yi)家有(you)著先進(jin)(jin)的(de)(de)(de)發(fa)(fa)展(zhan)(zhan)理念，先進(jin)(jin)的(de)(de)(de)管理經(jing)驗(yan)，在(zai)發(fa)(fa)展(zhan)(zhan)過程中不斷(duan)完善自己，要求自己，不斷(duan)創(chuang)(chuang)新(xin)，時(shi)刻準備著迎接更(geng)(geng)(geng)多挑戰(zhan)的(de)(de)(de)活力(li)(li)公司(si)，在(zai)上海(hai)(hai)市(shi)等地區的(de)(de)(de)化(hua)工(gong)(gong)中匯聚了大(da)量的(de)(de)(de)人脈以(yi)及**，在(zai)業界也(ye)收(shou)獲了很多良好(hao)(hao)的(de)(de)(de)評價(jia)，這些都(dou)源自于(yu)自身的(de)(de)(de)努(nu)(nu)力(li)(li)和大(da)家共同進(jin)(jin)步的(de)(de)(de)結果，這些評價(jia)對我(wo)們(men)(men)(men)而言是比較好(hao)(hao)的(de)(de)(de)前(qian)進(jin)(jin)動力(li)(li)，也(ye)促使(shi)我(wo)們(men)(men)(men)在(zai)以(yi)后的(de)(de)(de)道路上保(bao)持奮發(fa)(fa)圖強、一(yi)(yi)往(wang)無前(qian)的(de)(de)(de)進(jin)(jin)取創(chuang)(chuang)新(xin)精(jing)神，努(nu)(nu)力(li)(li)把公司(si)發(fa)(fa)展(zhan)(zhan)戰(zhan)略推向一(yi)(yi)個新(xin)高度，在(zai)全體員(yuan)工(gong)(gong)共同努(nu)(nu)力(li)(li)之下(xia)，全力(li)(li)拼(pin)搏(bo)(bo)將共同上海(hai)(hai)市(shi)蔚(yu)云(yun)化(hua)工(gong)(gong)供(gong)應和您一(yi)(yi)起(qi)攜(xie)手走向更(geng)(geng)(geng)好(hao)(hao)的(de)(de)(de)未(wei)來，創(chuang)(chuang)造(zao)更(geng)(geng)(geng)有(you)價(jia)值的(de)(de)(de)產品，我(wo)們(men)(men)(men)將以(yi)更(geng)(geng)(geng)好(hao)(hao)的(de)(de)(de)狀態(tai)，更(geng)(geng)(geng)認真(zhen)的(de)(de)(de)態(tai)度，更(geng)(geng)(geng)飽(bao)滿(man)的(de)(de)(de)精(jing)力(li)(li)去創(chuang)(chuang)造(zao)，去拼(pin)搏(bo)(bo)，去努(nu)(nu)力(li)(li)，讓我(wo)們(men)(men)(men)一(yi)(yi)起(qi)更(geng)(geng)(geng)好(hao)(hao)更(geng)(geng)(geng)快的(de)(de)(de)成長(chang)！

本文來自宜興市(shi)恒通風(feng)機有(you)限(xian)公司：//vijoo.com.cn/Article/61f4299896.html